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上海激光粒徑滴定儀均采用出色的工業(yè)化模塊化設計，可靈活方便地擴展ZETA電位和其他功能，如：的自動稀釋系統(tǒng)、自動進樣系統(tǒng)、在線進樣系統(tǒng)、多角度監(jiān)測系統(tǒng)和各種激光器/檢測器。
Nicomp 380上海激光粒徑滴定儀
基本概述：
Nicomp 380 是納米粒徑分析儀器，采用現(xiàn)在先進的動態(tài)光散射原理，利用的Nicomp多峰算法可以很準確的分析比較復雜多組分混合樣品。為實驗室的研究提供的分析技術。 測試范圍：0.3 nm – 10μm。
產(chǎn)品介紹：
Nicomp 380 上海激光粒徑滴定儀 采用動態(tài)光散射原理檢測分析顆粒系的粒度及粒度分布，粒徑檢測范圍 0.3 nm- 10μm。粒度分析復合采用 Gaussian 單峰算法和擁有技術的 Nicomp 多峰算法，對于多組分、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有*優(yōu)勢，其優(yōu)異的解析度及重現(xiàn)性是其他同類產(chǎn)品*的。
工作原理：
動態(tài)光散射法(DLS)，有時稱為準彈性光散射法（QELS），是一種成熟的非侵入技術，可測量亞微細顆粒范圍內(nèi)的分子與顆粒的粒度及粒度分布，使用技術，粒度可小于1nm。 動態(tài)光散射法的典型應用包括已分散或溶于液體的顆粒、乳劑或分子表征。 懸浮在溶液中的顆粒的布朗運動，造成散射光光強的波動。 分析光強的波動得到顆粒的布朗運動速度，再通過斯托克斯-愛因斯坦方程得到顆粒的粒度。
儀器參數(shù)：
| 粒徑測量范圍 | 粒度分析：0.3 nm - 10 μm |
| 分析方法 | 粒度分析：動態(tài)光散射，Gaussian 單峰算法和 NiComp 無約束自由擬合多峰算法 |
| pH值范圍 | 2 - 12 |
| 溫度范圍 | 0℃ - 90 ℃ |
| 檢測角度（可選） | 粒度分析：90°或 多角度（10°- 175°，可選配） |
| 高濃度樣品背散射 | 175°背散射 |
| 可用溶劑 | 水和絕大多數(shù)有機溶劑 |
| 樣品池 | 4 mL（標準，石英玻璃或有機玻璃）； 500μL（高透光率微量樣品池） |
| 分析軟件 | Windows 運行環(huán)境，符合 21 CFR Part 11 規(guī)范分析軟件 |
| 電壓 | 220 – 240 VAC，50Hz 或100 – 120 VAC，60Hz |
| 外形尺寸 | 56 cm * 41 cm * 24cm |
| 重量 | 約26kg（與配置有關）
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應用領域：
· 醫(yī)藥領域：乳劑，注射劑，脂質(zhì)體，膠體，混懸劑，滴眼液，高分子，病毒，疫苗等；
· 半導體： CMP Slurry，芯片，晶圓加工等；
· 特殊化工品：墨水&噴墨，納米材料，化工染料，潤滑劑，清洗劑等。
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