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簡介：1400℃三溫區(qū)管式爐采用智能化程序溫控系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；高真空級法蘭密封，結(jié)合我司標(biāo)準(zhǔn)真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛；以優(yōu)質(zhì)硅碳棒為加熱元件，采用智能化控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度...

簡介：1700℃全自動真空氣氛爐產(chǎn)品參數(shù)正在更新中

簡介：1200℃*箱式實驗電爐以摻鉬電阻絲為加熱元件，采用智能化控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；爐膛采用日本技術(shù)真空吸附成型的優(yōu)質(zhì)氧化鋁多晶纖維無機(jī)材料；雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，有效保證外殼表面溫度。...

簡介：全自動平移升降爐產(chǎn)品參數(shù)正在更新中

簡介：1700℃真空鉬絲爐廣泛應(yīng)用于各大高校院校，科研單位及生產(chǎn)企業(yè)在真空或保護(hù)氣氛下對材料進(jìn)行燒結(jié)處理。立式結(jié)構(gòu)，適用于金屬材料在高真空，高溫條件下進(jìn)行退火，釬焊，燒結(jié)，除氣處理，同時也適用于石英脫羥...

簡介：1200℃小型立式管式爐采用智能化程序控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；雙層殼體結(jié)構(gòu)，設(shè)計合理，外形美觀，結(jié)構(gòu)緊湊；雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，有效保證外殼表面溫度；真空級法蘭密封，結(jié)合我司標(biāo)準(zhǔn)真空、...

簡介：1200℃多工位開啟式管式爐是我司在原有小尺寸多工位管式爐的基礎(chǔ)上改進(jìn)而成的一款新爐型。該爐可在水平或者垂直等多個工位下工作，操作簡單快捷，實用性高；結(jié)合我司標(biāo)準(zhǔn)真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛。

簡介：1700℃升降氣氛爐產(chǎn)品參數(shù)正在更新中

簡介：1200℃立式開啟式管式爐采用智能化程序控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，有效保證外殼表面溫度；開啟式爐蓋設(shè)計，可在高溫情況下觀察物料反應(yīng)情況并實現(xiàn)迅速降溫；真空級法蘭密封...

簡介：實驗電爐PECVD系統(tǒng)主要用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復(fù)合薄膜等，也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用。