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【儀器網(wǎng) 解決方案】雖然X熒光光譜的互相干擾情況比較少，而且大多數(shù)情況下對分析結果的影響不大，但是在某些情況如稀土化合物中稀土元素的測定，仍然需要克服干擾譜線。因此，操作人員也需要掌握一些消除干擾譜線的方法。
激發(fā)源
對于X射線管說來，可以根據(jù)可能產生譜線干擾的來源，更換適當靶材的x射線管，選擇足以抑制干擾譜線出現(xiàn)的管壓，將樣品屏蔽到較小的區(qū)域以減少強大的原級標識光譜的散射等。
若還不能有效地克服來自激發(fā)源的干擾時，有時也可以采用濾光片以消除干擾線，或者以原級束照射能夠產生波長略短于分析元素吸收限的次級靶，然后以次級靶作為試樣的激發(fā)源。
分析晶體與光路
對一定結構的x射線分光計說來，可以通過選擇適當?shù)姆治鼍w，以消除存在于樣品中干擾元素的偶數(shù)級反射線對分析線(或參比線)干擾。此外選擇分辨率高的分析晶體和準直器，有時也可以消除或減輕某些譜線的干擾。
其它的，在光路中可變 的部件就是標本座、樣品的薄膜底座和x射線束衰減 (減光板)等。有時，還有可能用到濾光片，對于這些可變的部件，可以根據(jù)實際情況作出選擇，以便將譜線干擾限制在低限度。
探測和測量系統(tǒng)
盡可能選擇有利工作條件，以減少或消除上述激發(fā)源和光學系統(tǒng)無法消除的干擾譜線。
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